[发明专利]一种氮化硅晶须的制备方法无效
申请号: | 201010240837.5 | 申请日: | 2010-07-30 |
公开(公告)号: | CN101864620A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 叶枫;张敬义 | 申请(专利权)人: | 哈尔滨工业大学 |
主分类号: | D01F9/10 | 分类号: | D01F9/10 |
代理公司: | 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 | 代理人: | 韩末洙 |
地址: | 150001 黑龙*** | 国省代码: | 黑龙江;23 |
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摘要: | 一种氮化硅晶须的制备方法,它涉及一种Si3N4晶须的制备方法。本发明解决了现有Si3N4晶须的制备方法存在制备设备复杂,生产成本高,污染环境,Si3N4晶须的大小不易控制,及得到的Si3N4晶须的纯度低的问题。本发明的方法:将α-Si3N4粉体、烧结助剂、水溶性高分子聚合物和水混合球磨得浆料;然后将浆料通过锥形嘴滴加至冷冻介质中,得固态球形浆料颗粒;再将浆料颗粒在冷冻机中冻干得晶须前驱体,然后将晶须前驱体在气氛烧结炉中烧结即可。本发明的制备方法将冷冻成型与高温煅烧结合起来,工艺条件易于实现,无需复杂制备设备,生产成本低,对环境没有污染;Si3N4晶须的大小可控,而且产量高,纯度高。 | ||
搜索关键词: | 一种 氮化 硅晶须 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种氮化硅晶须的制备方法,其特征在于氮化硅晶须的制备方法是通过以下步骤实现的:一、将水溶性高分子聚合物加入90~100℃的去离子水中,搅拌溶解10min后,再加入α-Si3N4粉体和烧结助剂得混合料,然后将混合料球磨20~30h,得到固相体积含量为5%~20%的浆料,其中,固相为α-Si3N4粉体和烧结助剂,烧结助剂的质量占固相总质量的2%~10%,水溶性高分子聚合物的质量是固相总质量的0.2%~1%,所述烧结助剂为MgO、CaO、BaO、Li2O、TiO2、AlN、Y2O3、Al2O3、La2O3、Yb2O3、Ce2O3、Nd2O3和SiO2中的一种或者其中几种的组合物;二、将步骤一得到的浆料通过锥形嘴滴入温度为-200℃~-60℃的冷却介质中,得到固态球形浆料颗粒,其中,锥形嘴的口径控制在2~3mm;三、将步骤二得到的固态球形浆料颗粒放入冻干机中冷冻干燥24~72h,得到β-Si3N4晶须前驱体,其中冷冻干燥温度为-20℃~-30℃;四、将步骤三得到的β-Si3N4晶须前驱体放入气氛烧结炉内,在氮气气氛下,在1750℃~1900℃温度下,保温煅烧1~3h,得β-Si3N4晶须聚集颗粒;五、将步骤四得到的β-Si3N4晶须聚集颗粒放入氢氟酸中腐蚀12~24h,然后将β-Si3N4晶须聚集颗粒清洗至清洗液为中性,再将清洗后的β-Si3N4晶须聚集颗粒碾碎,过筛,即得到β-Si3N4晶须,完成氮化硅晶须的制备方法。
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