[发明专利]相移掩膜的制造方法、平板显示器的制造方法和相移掩膜

摘要

本发明提供一种相移掩膜的制造方法、平板显示器的制造方法和相移掩膜，通过其可以形成细小而高精度的曝光图案。本发明的第一实施方式中所述的相移掩膜(1)具有相移层(13P1)，其可使任何一种波长在300nm以上500nm以下范围内的光产生180°的相位差。因此，将上述波长范围内的光用作进行曝光处理的光，由于在相移层处光的相位发生反转所以会形成光强度最小的区域，使曝光图案更加清楚。在混合有40％以上90％以下的氮化气体和10％以上35％以下的氧化气体的环境中，使由铬系材料制成的靶产生溅射而形成相移层(13P)。

主权项

一种相移掩膜的制造方法，其特征在于，包括以下工序：对透明基板上的遮光层进行图案形成加工的工序，在所述透明基板上形成覆盖所述遮光层的相移层的工序，其方法为，在混合有40％以上90％以下的氮化气体和10％以上35％以下的氧化气体的环境中，使由铬系材料制成的靶产生溅射而形成所述相移层，所述相移层对任何一种波长在300nm以上500nm以下范围内的光产生180°的相位差，对所述相移层进行图案形成加工的工序。