[发明专利]等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法有效
| 申请号： | 201010209823.7 | 申请日： | 2010-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN102296263A | 公开（公告）日： | 2011-12-28 |
| 发明（设计）人： | 刘邦武;王文东;夏洋;李超波;罗小晨;李勇滔 | 申请（专利权）人： | 中国科学院微电子研究所 |
| 主分类号： | C23C4/10 | 分类号： | C23C4/10;C23C4/12;C23C4/02 |
| 代理公司： | 北京市德权律师事务所 11302 | 代理人： | 王建国 |
| 地址： | 100029 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开一种等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法包括对基材进行喷砂处理；及对喷砂处理后基材进行喷涂Y2O3处理。本发明采用Y2O3粉末作为喷涂材料改性处理腔室内表面，Y2O3涂层具有更加稳定的耐等离子蚀刻性能，可以延长零部件的寿命，并且在刻蚀工艺过程中减少颗粒。本发明改性处理过程中采用空气喷吹方法或者循环冷却水方法来冷却基材，提高了基材的冷却速度，防止刻蚀工艺腔在等离子喷涂过程中发生变形、融化，提高了刻蚀工艺腔的成品率。 | ||
| 搜索关键词： | 等离子体 刻蚀 工艺 室内 表面 改性 处理 方法 | ||
【主权项】：
一种等离子体刻蚀工艺腔室内表面的改性处理方法，其特征在于，包括：对基材进行喷砂处理；及对喷砂处理后基材进行喷涂Y2O3处理。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法，例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理，例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆
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