[发明专利]含噻吩和吡咯并吡咯单元的芴类共聚物、制备方法及其应用

摘要

本发明公开了一种含噻吩和吡咯并吡咯二酮单元的芴类共聚物、制备方法及其应用，聚合物为以下通式的化合物：其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉、R₁₀相同或不相同地表示为H或C₁～C₂₀的烷基，x和y满足：x+y＝1，x＞0，y＞0，n为1～200的整数。制备方法为：以芴类化合物、噻吩类化合物的二溴产物、吡咯并吡咯二酮类化合物的二溴产物为单体原料，进行铃木反应，得到含噻吩和吡咯并吡咯二酮单元的芴类共聚物。本发明的含噻吩和吡咯并吡咯二酮单元的芴类共聚物作为有机半导体材料，具有与太阳光发射光谱匹配度高，可以提高光电转换效率，用途广泛，且其合成方法条件温和、易于控制。

主权项

1.一种含噻吩和吡咯并吡咯二酮单元的芴类共聚物，其特征在于，为以下通式的化合物：其中，R₁、R₂、R₃、R₄、R₅、R₆、R₇、R₈、R₉、R₁₀选自H或C₁～C₂₀的烷基，x和y满足：x+y＝1，x＞0，y＞0，n为1～200的整数。