[发明专利]在内表面上具有薄膜的中空成型品的形成方法与装置有效
申请号: | 201010206728.1 | 申请日: | 2006-09-28 |
公开(公告)号: | CN101879769A | 公开(公告)日: | 2010-11-10 |
发明(设计)人: | 西田正三 | 申请(专利权)人: | 株式会社日本制钢所 |
主分类号: | B29C45/00 | 分类号: | B29C45/00;B29C45/04;B29C45/26;C23C14/34;B29L22/00 |
代理公司: | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人: | 李佳;穆德骏 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 本发明涉及在内表面上具有薄膜的中空成型品的形成方法与装置。本发明的方法采用固定模和可滑动的活动模,所述固定模具有淀积凹槽,在淀积凹槽内部配备有诸如靶电极之类的淀积元件。执行一次成型,以形成在其开口周围具有接合部分的本体部分和盖部件。在用淀积凹槽紧密覆盖后,对留在垂直滑动模中的本体部分进行淀积。接下来,将留在模中的淀积过的本体部分和盖部件对齐并合模,注射熔融金属以使接合部分一体化。 | ||
搜索关键词: | 在内 表面上 具有 薄膜 中空 成型 形成 方法 装置 | ||
【主权项】:
一种用于同时形成多个中空成型品的方法,所述中空成型品每个都在其内表面上具有薄膜,该方法包括:一次成型,其包括:通过使用固定模和可滑动的活动模使多对半中空体成型;淀积,其包括:将所述可滑动的活动模驱动至预定位置,同时使在一次成型中成型的多对中空体留在其各自的模中;和在用淀积凹槽覆盖时,淀积成对半中空体中的至少一个的内表面,所述淀积凹槽形成在所述固定模中并且在其中包括淀积元件,所述淀积元件包括靶电极、基板电极和真空吸管;和二次成型,其包括:将所述可滑动的活动模驱动至使所述多对半中空体的开口对齐的位置,同时使所述多对半中空体留在各自的模中,其中所述多对半中空体中的至少一个是淀积过的;将所述可滑动的活动模合模;和将熔融树脂注射到所述半中空体的接合部分,从而使所述多对半中空体一体化。
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