[发明专利]一种SiC衬底LED的欧姆接触电极制备方法无效
申请号: | 201010206137.4 | 申请日: | 2010-06-23 |
公开(公告)号: | CN101908591A | 公开(公告)日: | 2010-12-08 |
发明(设计)人: | 沈燕;徐现刚;徐化勇;王成新;李树强 | 申请(专利权)人: | 山东华光光电子有限公司 |
主分类号: | H01L33/36 | 分类号: | H01L33/36 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 250101 山东*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | 本发明提供了一种SiC衬底LED的欧姆接触电极制备方法,在LED的SiC衬底上按常规工艺制作出金属电极(即N电极)后,通过局部激光高温退火,使得整个金属电极上40-60%的面积经过激光高温退火形成欧姆接触。一般用激光退火方法,退火区域呈5-15m宽度间隔的条状带,或者退火区域是一系列点阵点。本发明简单易控制,避免了整个器件浸入高温环境,而是通过局部高温退火形成欧姆接触。既形成了良好的欧姆接触电极,又减小了对器件整体性能的影响。 | ||
搜索关键词: | 一种 sic 衬底 led 欧姆 接触 电极 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种SiC衬底LED的欧姆接触电极制备方法的,其特征是:在LED的SiC衬底上按常规工艺制作出金属电极后,通过对电极进行部分区域激光退火,使得整个金属电极上只有40 60%的面积经过800 1000℃高温,形成欧姆接触。
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