[发明专利]一种制作云纹光栅的方法和纳米压印设备

摘要

一种制作云纹光栅的方法和纳米压印设备，属于光学器件制造和光测力学技术领域。本发明首先采用电铸工艺制作镍光栅膜，再采用覆膜工艺制作镍基金属光栅模板，避免了硅基等脆性模板易裂的缺点，可以多次重复使用。通过纳米压印的方法和设备在试件表面制作云纹光栅，操作简单，经济实用。纳米压印设备由加压，升温，冷却、控制系统等组成。压印在真空环境下完成，使用导轨定向，气囊可控推进，并利用气囊内气体压力的自平衡使上下压板在压印的过程中保持平行，采用电加热快速升温，采用水冷装置快速降温，提高了云纹光栅的制作效率。该方法和设备可以制作适合几何云纹、云纹干涉等方法测试的各种频率的云纹光栅。

主权项

一种制作云纹光栅的方法，其特征在于该方法包括如下步骤：1)制作镍光栅膜：将带有光栅微结构的导电母板作为阴极，镍金属作为阳极，在氨基硫酸镍溶液中电铸，得到0.5mm～1mm厚的镍光栅膜；2)制作镍基金属光栅模板：通过双面胶膜将电铸得到的镍光栅膜粘接到基板上，得到镍基金属光栅模板；所述的基板为平整的普通玻璃或者石英玻璃，所述的双面胶膜为3M双面胶膜；3)将试件表面抛光，清洗、烘干后，在试件表面上旋涂电子抗蚀剂，烘干定胶后，将镍基金属光栅模板覆盖在试件表面上；4)采用纳米压印设备进行压印：将覆盖有镍基金属光栅模板的试件放入设备中，通过温控设备升温，达到电子抗蚀剂的转变温度Tg以上后施加1～4MPa压力，然后将温度降低至室温后卸压，将镍基金属光栅模板与试件分离，然后在试件表面的电子抗蚀剂上镀一层10～50nm厚的反光金属铝膜，就得到云纹光栅。