[发明专利]二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 201010196546.0 | 申请日： | 2010-06-10 |
| 公开（公告）号： | CN101906614A | 公开（公告）日： | 2010-12-08 |
| 发明（设计）人： | 李倩倩;尹桂林;郑慈航;王永强;余震;何丹农 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学;上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C14/06 |
| 代理公司： | 上海交达专利事务所 31201 | 代理人： | 王锡麟;王桂忠 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 一种固体润滑技术领域的二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，通过将基片抛光后超声清洗并吹干，然后置于溅射室中进行中间层溅射和复合层反应磁控溅射，待溅射室自然冷却至室温，得到反应磁控溅射制备的新型MoS2基润滑耐磨复合薄膜。本发明制备得到良好摩擦性能的薄膜，其耐磨性能和使用寿命有了极大的提高，拓展了MoS2在大气环境下的应用范围。 | ||
| 搜索关键词： | 二硫化钼 润滑 耐磨 复合 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种MoS2基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于：首先将基片抛光后超声清洗并吹干，然后置于溅射室中进行中间层溅射和复合层反应磁控溅射，待溅射室自然冷却至室温，得到反应磁控溅射制备的新型MoS2基润滑耐磨复合薄膜。
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