[发明专利]二硫化钼基润滑耐磨复合薄膜的制备方法

权利要求书

1.一种MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征在于：首先将基片抛光后超声清洗并吹干，然后置于溅射室中进行中间层溅射和复合层反应磁控溅射，待溅射室自然冷却至室温，得到反应磁控溅射制备的新型MoS₂基润滑耐磨复合薄膜。

2.根据权利要求1所述的MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征是，所述的基片为不锈钢。

3.根据权利要求1所述的MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征是，所述的抛光是指：将基片抛光至光洁度小于0.05μm。

4.根据权利要求1所述的MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征是，所述的超声清洗是指：采用分析纯酒精、丙酮将抛光后的不锈钢基片置于超声清洗机中分别超声清洗30min，后用压缩氮气吹干基片表面。

5.根据权利要求1所述的MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征是，所述的中间层溅射是指：将溅射室本底真空抽至10^-4Pa后，通入氩气并调整气体流量计使气压达到1Pa，设置溅射功率为100W，溅射时间为15min，在基片上直流溅射纯Ti靶或纯Ni靶，制成厚度约100nm的中间层。

6.根据权利要求1所述的MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征是，所述的复合层反应磁控溅射是指：溅射室中通入的气体为氩气和氮气的混合气体，调节氮气和氩气流量计，使得在0.5～2Pa氩气和氮气混合气体环境下，分别设置：

a)MoS₂靶射频溅射功率为100～300W；

b)纯钛靶直流溅射功率10～50W；

两靶同时开启进行溅射，溅射时间为40～90min，制成厚度为0.5～2μm的复合层。

7.根据权利要求6所述的MoS₂基润滑耐磨复合薄膜的制备方法，其特征是，所述的混合气体中氩气为溅射气体，氮气为反应气体。