[发明专利]酞菁/TiO2有序薄膜及其制备方法无效

专利信息
申请号: 201010194556.0 申请日: 2010-06-08
公开(公告)号: CN101879795A 公开(公告)日: 2010-11-10
发明(设计)人: 贺春英;樊竞泽;吴谊群;段武彪;陈志敏 申请(专利权)人: 黑龙江大学
主分类号: B32B9/04 分类号: B32B9/04;B32B27/06;B32B27/08;G02B1/10
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 韩末洙
地址: 150080 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 酞菁/TiO2有序薄膜及其制备方法,它属于非线性光学薄膜领域。本发明解决了现有制备非线性光学薄膜方法存在设备复杂、成本高、难操作、膜厚不易控制的缺点。本发明酞菁/TiO2有序薄膜从下至上由基片、连接层、叠层连接而成,所有连接层由PDDA层和PSS层交替成对堆叠而成,所述的叠层由TiO2/PDDA层和酞菁层交替堆叠而成。制备方法:将基片预处理,用PDDA溶液和PSS溶液交替浸泡,再用TiO2复合物溶液及酞菁溶液交替浸泡获得。本发明方法操作简便,设备简单,膜厚可控,稳定性较好,制备速度快,可操作性强,可工业化生产。本发明应用在纳米结构薄膜、光电器件、表面工程、传感器等领域。
搜索关键词: 酞菁 tio sub 有序 薄膜 及其 制备 方法
【主权项】:
酞菁/TiO2有序薄膜,其特征在于酞菁/TiO2有序薄膜从下至上由基片(1)、连接层(2)、叠层(3)连接而成,所有连接层(2)由PDDA层(2-1)和PSS层(2-2)交替成对堆叠而成,连接层(2)中至少包括三层PDDA层(2-1),连接层(2)中最下层的PDDA层(2-1)与基片(1)连接,连接层(2)中最上层的PSS层(2-2)与叠层(3)连接,所述的叠层(3)由TiO2复合物层(3-1)和酞菁层(3-2)交替堆叠而成,叠层(3)中TiO2复合物层(3-1)与酞菁层(3-2)的层数相等或不相等,TiO2复合物层(3-1)与酞菁层(3-2)带有的电荷电极性相反,TiO2复合物层(3-1)由TiO2溶胶和PDDA水溶液的混合液制成或者由TiO2溶胶和PSS水溶液的混合液制成。
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