[发明专利]一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备有效
申请号: | 201010188615.3 | 申请日: | 2010-05-24 |
公开(公告)号: | CN101864560A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 唐伟忠;李晓静;于盛旺;王凤英 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C16/27 | 分类号: | C23C16/27;C23C16/513 |
代理公司: | 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 | 代理人: | 刘淑芬 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备,属于金刚石膜的化学气相沉积技术领域。包括微波谐振腔的上圆柱体、微波谐振腔的下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、石英窗、等离子体、调节机构一和调节机构二。金刚石膜沉积台、微波反射体在上圆柱体和下圆柱体内部,石英窗在金刚石膜沉积台的下方;微波反射体通过调节机构一调节微波反射体的高度,调节机构二调节上圆柱体的高度,微波反射体对微波电场起反射和增强作用。上圆柱体、下圆柱体、金刚石膜沉积台、微波反射体、调节机构一和调节机构二都能实现直接的水冷。本发明优点是能在高功率下,以较高速率沉积高品质的金刚石膜,设备具有可靠、方便调节等特点。 | ||
搜索关键词: | 一种 功率 微波 等离子体 金刚石 沉积 设备 | ||
【主权项】:
一种高功率微波等离子体金刚石膜沉积设备,其特征是沉积设备由微波谐振腔的上圆柱体(1)、微波谐振腔的下圆柱体(2)、金刚石膜沉积台(3)、微波反射体(4)、石英窗(5)、等离子体(6)、调节机构一(8)和调节机构二(9)组成;微波谐振腔的主体由两个直径不同、形状简单的上圆柱体(1)、下圆柱体(2)所组成;上圆柱体(1)、下圆柱体(2)、微波反射体(4)均为圆柱体结构;金刚石膜沉积台(3)、微波反射体(4)在上圆柱体(1)和下圆柱体(2)内部,石英窗(5)设置在金刚石膜沉积台(3)的下方;微波反射体(4)通过调节机构一(8)调节微波反射体(4)的高度,调节机构二(9)调节上圆柱体(1)的高度,微波反射体(4)对微波电场起反射和增强作用。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
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