[发明专利]一种制作太阳能电池片的刻蚀装置以及方法有效
| 申请号： | 201010187523.3 | 申请日： | 2010-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN101864569A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 中野研吾 | 申请（专利权）人： | 江西赛维LDK太阳能高科技有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/02 | 分类号： | C23F1/02;C23F1/24;C23F1/40 |
| 代理公司： | 江西省专利事务所 36100 | 代理人： | 杨志宇 |
| 地址： | 338000 江西省新余*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明涉及光伏或半导体领域中的一种制作太阳能电池片的刻蚀装置，本发明还涉及了一种制作太阳能电池片的刻蚀方法；该装置包括垫子1，垫子1与硅片2接触的表面上含有刻蚀溶液4；该方法包括，经过硅片制绒、扩散工序后得到表面覆盖有扩散层3的硅片2，其特征在于：将表面覆盖有扩散层3的硅片2需要去除扩散层3的部位与垫子1接触，垫子1上的刻蚀溶液4对表面覆盖有扩散层3的硅片2需要去除扩散层3的部位进行刻蚀，完成刻蚀工序；本发明操作简单，去除了覆盖掩膜的工艺环节，实现了灵活、快速地对硅片刻蚀区域的控制，同时本发明提供的制作太阳能电池片的刻蚀装置消除了现有等离子刻蚀以及湿法刻蚀法存在发生底蚀现象的风险。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 太阳能电池 刻蚀 装置 以及 方法 | ||
【主权项】：
一种制作太阳能电池片的刻蚀装置，其特征在于：包括垫子(1)，垫子(1)与硅片(2)接触的表面上含有刻蚀溶液(4)。
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