[发明专利]基于介质阻挡放电低温原子化器的非色谱汞形态分析方法无效
| 申请号： | 201010181304.4 | 申请日： | 2010-05-18 |
| 公开（公告）号： | CN101865832A | 公开（公告）日： | 2010-10-20 |
| 发明（设计）人： | 朱振利;刘志付;郑洪涛 | 申请（专利权）人： | 中国地质大学(武汉) |
| 主分类号： | G01N21/31 | 分类号： | G01N21/31 |
| 代理公司： | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人： | 崔友明 |
| 地址： | 430074 湖*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明属于分析化学中的元素形态分析技术领域，特别的是涉及基于介质阻挡放电低温原子化器的非色谱汞形态分析方法，利用还原剂将样品中的无机汞还原为Hg0，而有机汞生成有机汞氢化物，在介质阻挡放电原子化器不放电时，进行无机汞的测定得到无机汞的浓度；在介质阻挡放电原子化器放电时，有机汞氢化物被原子化，进行总汞的测定，得到总汞的浓度；有机汞的浓度为总汞的浓度与无机汞的浓度之间的差值。本发明的有益效果在于：本方法测定简单快速，一分钟测定一个样品，而且具有气体消耗少(40-100mL min-1)，功耗低(≤20W)的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 介质 阻挡 放电 低温 原子 色谱 形态 分析 方法 | ||
【主权项】：
基于介质阻挡放电低温原子化器的非色谱汞形态分析方法，其特征在于：利用还原剂将样品中的无机汞还原为Hg0，而有机汞生成有机汞氢化物，在介质阻挡放电原子化器不放电时，进行无机汞的测定得到无机汞的浓度；在介质阻挡放电原子化器放电时，有机汞氢化物被原子化，进行总汞的测定，得到总汞的浓度；有机汞的浓度为总汞的浓度与无机汞的浓度之间的差值。
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