[发明专利]光刻胶干燥设备和方法无效
| 申请号： | 201010163867.0 | 申请日： | 2010-04-29 |
| 公开（公告）号： | CN102236271A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 周伟峰;郭建;明星 | 申请（专利权）人： | 北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38 |
| 代理公司： | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人： | 刘芳 |
| 地址： | 100176 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻胶干燥设备和方法，包括真空室，真空室中设置有用于承载基板的机台，真空室的壁面上开设有抽气孔，其中还包括：强制对流部件，设置在真空室中，用于在真空室中形成空气对流，以促进基板上光刻胶中的溶剂挥发。本发明提供的光刻胶干燥设备，通过设置强制对流部件增加真空室中的对流空气，以加速光刻胶表面的空气流动速度，提高液体溶剂的挥发效率，从而减少干燥后光刻胶中溶剂的残存量。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 干燥设备 方法 | ||
【主权项】：
一种光刻胶干燥设备，包括真空室，所述真空室中设置有用于承载基板的机台，所述真空室的壁面上开设有抽气孔，其特征在于，还包括：强制对流部件，设置在所述真空室中，用于在所述真空室中形成空气对流，以促进所述基板上光刻胶中的溶剂挥发。
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