[发明专利]光刻胶干燥设备和方法无效

专利信息
申请号: 201010163867.0 申请日: 2010-04-29
公开(公告)号: CN102236271A 公开(公告)日: 2011-11-09
发明(设计)人: 周伟峰;郭建;明星 申请(专利权)人: 北京京东方光电科技有限公司
主分类号: G03F7/38 分类号: G03F7/38
代理公司: 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 代理人: 刘芳
地址: 100176 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 光刻 干燥设备 方法
【权利要求书】:

1.一种光刻胶干燥设备,包括真空室,所述真空室中设置有用于承载基板的机台,所述真空室的壁面上开设有抽气孔,其特征在于,还包括:

强制对流部件,设置在所述真空室中,用于在所述真空室中形成空气对流,以促进所述基板上光刻胶中的溶剂挥发。

2.根据权利要求1所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述强制对流部件为风扇。

3.根据权利要求2所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述风扇包括多个扇叶,悬吊在所述机台的上方,所述多个扇叶呈放射状均匀布设。

4.根据权利要求3所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述风扇悬吊在抽气孔的下方。

5.根据权利要求3所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述多个扇叶的尾端连接在一个固定环上。

6.根据权利要求1所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述强制对流部件为形成在所述真空室壁面上的通风孔,所述通风孔连接鼓风机以形成空气对流。

7.根据权利要求1~6任一所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述抽气孔的数量为至少一个,均匀或非均匀地布设在所述真空室的壁面上。

8.根据权利要求1~6任一所述的光刻胶干燥设备,其特征在于:所述机台的上表面还设置有凹槽,用于固定所述基板。

9.一种光刻胶干燥方法,其特征在于,包括:

将涂覆有光刻胶的基板置于真空室内,在所述真空室进行强制通风以形成空气对流,以促进所述基板上光刻胶中的溶剂挥发;

对所述真空室进行抽真空操作。

10.根据权利要求9所述的光刻胶干燥方法,其特征在于,在所述真空室进行强制通风以形成空气对流包括:

在所述真空室中开启风扇进行强制通风,以形成空气对流。

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