[发明专利]光刻胶干燥设备和方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器制造过程中的光刻胶干燥技术，尤其涉及一种光刻胶干燥设备和方法。

背景技术

液晶显示器是目前常用的平板显示器，近十年有了飞速地发展，从屏幕尺寸到显示质量都取得了很大进步。

液晶显示器的制备工艺中经常包括掩膜构图工艺，需要在基板上布设光刻胶，而后进行曝光、显影和刻蚀操作。在涂覆光刻胶之后，进行曝光显影之前，需要对光刻胶进行干燥处理，将其中的溶剂挥发除去，形成固态的光刻胶以便曝光显影。

现有对光刻胶的干燥操作包括两种形式。一种是对尺寸较小的基板上涂覆的光刻胶进行干燥，首先旋转基板，通过离心力除去70％以上的溶剂，而后进行抽真空操作，又称低压干燥工艺或真空腔体脱水工艺，将涂覆光刻胶的基板置于低压真空环境下，从而除去剩余的溶剂。另一种是对尺寸较大的基板进行光刻胶干燥，大尺寸基板由于体积原因而难以进行旋转，目前仅通过抽真空操作来除去溶剂。

图1为现有技术中大尺寸基板的光刻胶干燥设备的结构示意图，包括由下腔11和上腔12扣合而成的真空室10，其中设置有承载基板3的机台2，在真空室10的上表面开设有多个抽气孔4，如图2所示，抽气孔4连接包括导气通道的支架6，以便从抽气孔4进行抽真空操作。

现有这种对大尺寸基板进行光刻胶干燥操作的方式显然会降低溶剂的除去效率，使得光刻胶中残存很多溶剂，并且由于抽真空时抽气孔的位置不均匀，导致光刻胶中溶剂的残存位置不均匀。邻近抽气孔的位置溶剂会比较少，远离抽气孔的位置溶剂会比较多。显影时光刻胶中溶剂的含量直接决定着光刻胶的坡度角形貌。溶剂的不均匀残存，会使显影后的光刻胶出现反角的缺陷。图3所示为具有反角的光刻胶的结构示意图，基板3上的光刻胶5坡度角为反角，不利于后续的构图工艺。

因此，现有大尺寸基板的光刻胶干燥操作存在溶剂残存量较多且不均匀的问题，光刻胶膜层质量好坏直接影响着最终产品的性能，所以该问题影响了目前越来越多的大尺寸液晶显示器的产品质量。

发明内容

本发明提供一种光刻胶干燥设备和方法，以减少干燥后光刻胶中溶剂的残存量。

本发明提供一种光刻胶干燥设备，包括真空室，所述真空室中设置有用于承载基板的机台，所述真空室的壁面上开设有抽气孔，其中，还包括：

强制对流部件，设置在所述真空室中，用于在所述真空室中形成空气对流，以促进所述基板上光刻胶中的溶剂挥发。

本发明提供一种光刻胶干燥方法，包括：

将涂覆有光刻胶的基板置于真空室内，在所述真空室进行强制通风以形成空气对流，以促进所述基板上光刻胶中的溶剂挥发；

对所述真空室进行抽真空操作。

本发明提供的光刻胶干燥设备和方法，通过设置强制对流部件增加真空室中的对流空气，以加速光刻胶表面的空气流动速度，提高液体溶剂的挥发效率，从而减少干燥后光刻胶中溶剂的残存量。

附图说明

图1为现有技术中大尺寸基板的光刻胶干燥设备的侧视结构示意图；

图2为现有技术中大尺寸基板的光刻胶干燥设备的俯视结构示意图；

图3为具有反角的光刻胶的结构示意图；

图4为本发明实施例一提供的光刻胶干燥设备的侧视结构示意图；

图5为本发明实施例一提供的光刻胶干燥设备的俯视结构示意图；

图6为本发明实施例二提供的光刻胶干燥设备的俯视结构示意图；

图7为本发明实施例三提供的光刻胶干燥方法的流程图。

附图标记：

10-真空室；     11-下腔；   12-上腔；

2-机台；        3-基板；    4-抽气孔；

5-光刻胶；      6-支架；    7-风扇；

8-凹槽；        9-固定环。

具体实施方式

为使本发明实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本发明实施例中的附图，对本发明实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本发明一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本发明中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本发明保护的范围。