[发明专利]光刻设备和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010143315.3 | 申请日： | 2010-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN101840161A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | T·A·R·凡埃姆派尔;M·霍凯斯;N·E·T·詹森 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光刻设备和器件制造方法。定位设备包括：第一物体和第二物体；定位系统，其配置用以相对于彼此定位所述第一物体和所述第二物体；和柔性传输线，其连接到所述第一物体和所述第二物体，所述柔性传输线具有沿柔性传输线变化的刚度，使得所述柔性传输线能够由动态传递函数表示，所述动态传递函数适于所述定位系统的闭环传递函数。 | ||
| 搜索关键词： | 光刻 设备 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种定位设备，包括：第一物体和第二物体；定位系统，其配置用以相对于彼此定位所述第一物体和所述第二物体；和柔性传输线，其连接到所述第一物体和所述第二物体，所述柔性传输线具有沿柔性传输线变化的刚度，使得所述柔性传输线能够由动态传递函数表示，所述动态传递函数适合于所述定位系统的闭环传递函数。
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