[发明专利]光学基材及其制造方法无效
| 申请号： | 201010143025.9 | 申请日： | 2010-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN102190423A | 公开（公告）日： | 2011-09-21 |
| 发明（设计）人： | 丘于川 | 申请（专利权）人： | 亚特控制系统股份有限公司 |
| 主分类号： | C03B11/08 | 分类号： | C03B11/08;C03B11/16 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 汤保平 |
| 地址： | 中国台湾台中*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | 一种光学基材的制造方法，其包含有如下步骤：a)取用一胚料；b)取用一模具组，将该胚料置于该模具组；c)取用一护封件原料，灌入该模具组使包覆于该胚料而形成有一护封件；d)使该护封件固化而紧固该胚料，而形成有一光学基材；e)打开模具组，取出该光学基材；另外，本发明提供了一种光学基材。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 基材 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种光学基材的制造方法，包含有如下步骤：a)取用一胚料；b)取用一模具组，将该胚料置于该模具组；c)取用一护封件原料，灌入该模具组使包覆于该胚料而形成有一护封件；d)使该护封件固化而紧固该胚料，而形成有一光学基材；e)打开模具组，取出该光学基材。
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