[发明专利]用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法有效
申请号: | 201010141912.2 | 申请日: | 2010-04-08 |
公开(公告)号: | CN102210916A | 公开(公告)日: | 2011-10-12 |
发明(设计)人: | 赵进才;孙春燕;陈春城;马万红 | 申请(专利权)人: | 中国科学院化学研究所 |
主分类号: | A62D3/10 | 分类号: | A62D3/10 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人: | 李柏 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法。本发明是利用小分子羧酸或其盐中的羧酸根与有机卤代物因卤键的相互作用而生成离子对络合物。该离子对络合物在可见光区产生一个新的吸收带,在可见光源的照射激发下,离子对络合物受激发发生电子转移,小分子羧酸根中的氧原子将电子传递给有机卤代物中的卤原子,加入有机或无机碱使小分子羧酸根中的氧原子给电子能力增强,可使反应速率加快。有机卤代物得电子的同时从溶剂中抽氢,脱卤还原为易处理的所含卤原子数减少的低卤代物或完全脱卤产物,从而达到有效降解有机卤代物的目的。本发明的方法在常温下即可进行,极大提高了对太阳能的利用率,无二次污染,具有广阔的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 羧酸 降解 有机 卤代物 光化学 还原 方法 | ||
【主权项】:
一种用羧酸或羧酸盐降解有机卤代物的光化学还原方法,其特征是:在反应器中将有机卤代污染物溶解于溶剂中,然后加入羧酸或羧酸盐的溶液;密封反应器并通入惰性气体除氧,使反应在无氧条件下进行;搅拌使含有有机卤代污染物的溶液和羧酸或羧酸盐的溶液相互扩散混合均匀得到混合液;用可见光光源照射所得混合液,使有机卤代污染物脱卤还原为易处理的含卤原子数减少的低卤代物或完全脱卤产物;所述的有机卤代污染物包括芳香族的卤代物或脂肪族的卤代物;卤素为Cl、Br或I。
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