[发明专利]一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置有效
| 申请号： | 201010139176.7 | 申请日： | 2010-03-31 |
| 公开（公告）号： | CN101825568A | 公开（公告）日： | 2010-09-08 |
| 发明（设计）人： | 刘宏伟;阚强;王春霞;陈弘达 | 申请（专利权）人： | 中国科学院半导体研究所 |
| 主分类号： | G01N21/41 | 分类号： | G01N21/41;G01N21/55;G01N21/64 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 周国城 |
| 地址： | 100083 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，包括：耦合棱镜；在耦合棱镜表面蒸镀的金属层；在金属层表面涂覆的传感介质层；形变布拉格反射镜；CCD传感器；以及在CCD传感器表面涂覆的荧光物质层。宽谱传感光束通过耦合棱镜后，特定波长与棱镜表面金属层发生表面等离子体模式共振，金属层表面介质折射率会对表面等离子体共振波长调制，不同介质折射率对应不同的波长表面等离子体耦合，通过棱镜的传感光束反射光谱由形变布拉格反射镜分光反射至CCD探测器上，利用CCD探测器不同位置对应波长光谱强度变化探测特定波长的表面等离子体共振光吸收，达到探测棱镜上金属表面介质折射率变化的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 利用 光谱 强度 变化 检测 介质 折射率 装置 | ||
【主权项】：
一种利用光谱强度变化检测介质折射率变化的装置，其特征在于，该装置包括：耦合棱镜(1)；在耦合棱镜(1)表面蒸镀的金属层(2)；在金属层(2)表面涂覆的传感介质层(3)；形变布拉格反射镜(4)；CCD传感器(5)；以及在CCD传感器(5)表面涂覆的荧光物质层(6)；其中，平行入射光波a经过所述耦合棱镜(1)入射至所述金属层(2)发生表面等离子体谐振耦合，并变为表面等离子体耦合反射光波b；反射光波b入射至所述形变布拉格反射镜(4)，被所述形变布拉格反射镜(4)反射，形成传感光波c；传感光波c入射至所述CCD传感器(5)表面的荧光物质层(6)；荧光物质层(6)被激发后由所述CCD传感器(5)检测荧光光谱强度；发生表面等离子体耦合的波长在CCD传感器(5)相应位置体现为暗条纹，通过检测暗条纹位置即可监测表面等离子体耦合波长，实现对介质折射率变化的检测。
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