[发明专利]用于光刻设备的水平传感器布置和器件制造方法有效
| 申请号： | 201010136056.1 | 申请日： | 2010-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101840166A | 公开（公告）日： | 2010-09-22 |
| 发明（设计）人： | A·J·登鲍埃夫;J·P·H·本斯库普;R·布林克霍夫;L·J·曼彻特 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 王新华 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于光刻设备的水平传感器布置和器件制造方法。具体地，本发明提供一种用于测量光刻设备中衬底的表面的高度的水平传感器布置。该水平传感器布置设置有用于向所述衬底发射检测辐射的光源和用于在操作中测量从所述衬底反射的辐射的检测器单元。光源布置成发射在将被用于处理光刻设备中衬底的抗蚀剂所敏感的波长范围内的检测辐射。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 光刻 设备 水平 传感器 布置 器件 制造 方法 | ||
【主权项】：
一种用于测量光刻设备中衬底的感光层的表面的位置的水平传感器布置，包括：辐射检测器，其用于在操作中测量从所述衬底反射的辐射，其中所述辐射检测器布置成测量在将被用于处理所述衬底的所述感光层所敏感的波长范围内的辐射。
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