[发明专利]显影装置和显影方法有效
| 申请号： | 201010132989.3 | 申请日： | 2010-03-12 |
| 公开（公告）号： | CN101833250A | 公开（公告）日： | 2010-09-15 |
| 发明（设计）人： | 有马裕;吉田勇一;山本太郎;吉原孝介 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/30 | 分类号： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供能够高均匀性地对基板供给显影液、抑制成品率的降低的显影装置、显影方法和存储介质。显影装置包括：基板保持部，其水平地保持表面涂布有抗蚀剂并被曝光后的基板；表面处理液雾化机构，其使用于提高显影液对上述基板的浸润性的表面处理液雾化；第一喷雾喷嘴，其将已雾化的上述表面处理液向上述基板喷雾；和显影液喷出喷嘴，其向已喷雾上述表面处理液的基板喷出显影液进行显影。雾化的表面处理液与保持液状的表面处理液相比，对基板的表面张力较低，所以在基板上的聚集受到抑制，能够容易地向基板整体供给，能够提高上述浸润性。其结果为，因为能够高均匀性地向基板供给显影液，成品率的降低能够得到抑制。 | ||
| 搜索关键词： | 显影 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种显影装置，其特征在于，包括：基板保持部，其水平地保持表面涂布有抗蚀剂并被曝光后的基板；表面处理液雾化机构，其将用于提高显影液对所述基板的浸润性的表面处理液雾化；第一喷雾喷嘴，其使已雾化的所述表面处理液向所述基板喷雾；和显影液喷出喷嘴，其用于向已喷雾所述表面处理液的基板喷出显影液进行显影。
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