[发明专利]显影装置和显影方法

权利要求书

1.一种显影装置，其特征在于，包括：

基板保持部，其水平地保持表面涂布有抗蚀剂并被曝光后的基板；

表面处理液雾化机构，其将用于提高显影液对所述基板的浸润性的表面处理液雾化；

第一喷雾喷嘴，其使已雾化的所述表面处理液向所述基板喷雾；和

显影液喷出喷嘴，其用于向已喷雾所述表面处理液的基板喷出显影液进行显影。

2.一种显影装置，其特征在于，包括：

基板保持部，其水平地保持表面涂布有抗蚀剂并被曝光后的基板；

表面处理液雾化机构，其使用于提高显影液对所述基板的浸润性的表面处理液雾化；

第一喷雾喷嘴，其将已雾化的所述表面处理液向所述基板喷雾；

显影液雾化机构，其用于将显影液雾化；和

第二喷雾喷嘴，其用于对所述基板喷雾已雾化的显影液进行显影。

3.如权利要求1所述的显影装置，其特征在于，包括：

清洗液喷出喷嘴，其用于对被供给所述显影液的基板供给清洗液，清洗基板；和

控制部，其控制所述显影液喷出喷嘴和所述清洗液喷出喷嘴的动作，

所述控制部输出控制信号，使下述两步骤重复进行：从显影液喷出喷嘴向基板供给显影液的步骤，和接着从清洗液喷出喷嘴喷出清洗液的步骤。

4.如权利要求2所述的显影装置，其特征在于，包括：

清洗液喷出喷嘴，其用于对被供给所述显影液的基板供给清洗液，清洗基板；和

控制部，其控制所述第二喷雾喷嘴和所述清洗液喷出喷嘴的动作，

所述控制部输出控制信号，使下述两步骤重复进行：从第二喷雾喷嘴向基板供给显影液的步骤，和接着从清洗液喷出喷嘴喷出清洗液的步骤。

5.如权利要求1或2所述的显影装置，其特征在于：

所述基板表面对水的静态接触角为80°以上。

6.一种显影方法，其特征在于，包括：

水平地保持表面涂布有抗蚀剂并被曝光的基板的工序；

使用于提高显影液在所述基板的浸润性的表面处理液雾化的工序；

从第一喷雾喷嘴向所述基板喷雾已雾化的表面处理液的工序；和

从显影液喷出喷嘴向已喷雾所述表面处理液的基板喷出显影液进行显影的工序。

7.一种显影方法，其特征在于，包括

水平地保持表面涂布有抗蚀剂并被曝光后的基板的工序；

使用于提高显影液在所述基板的浸润性的表面处理液雾化的工序；

从第一喷雾喷嘴向所述基板喷雾已雾化的表面处理液的工序；

使显影液雾化的工序；和

从第二喷雾喷嘴向所述基板喷雾已雾化的显影液进行显影的工序。

8.如权利要求6所述的显影方法，其特征在于：

重复进行下述两工序：

从显影液喷出喷嘴向基板供给显影液的工序，和

接着从清洗液喷出喷嘴向基板喷出清洗液清洗基板的工序。

9.如权利要求7所述的显影方法，其特征在于：

重复进行下述两工序：

从第二喷雾喷嘴向基板供给显影液的工序，和

接着从清洗液喷出喷嘴向基板喷出清洗液清洗基板的工序。