[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法

摘要

本发明提供一种等离子处理装置和等离子处理方法，与以往相比，能够谋求等离子体的稳定化，能够进行稳定的等离子处理，并且能够谋求延长构成匹配器的可变电容器的寿命。该等离子处理装置具有功率调制部件和匹配器，该功率调制部件进行以恒定的周期将来自高频电源的高频电力以脉冲状切换为第1功率和高于该第1功率的第2功率的功率调制，该匹配器用于对来自高频电源的高频电力进行阻抗匹配并施加该高频电力，该匹配器在由功率调制部件进行功率调制时、以及在施加第1功率时和自施加第2功率开始规定期间内，能停止匹配动作。

主权项

一种等离子处理装置，其特征在于，包括：处理室，其用于收容基板并对基板实施等离子处理；处理气体供给机构，其用于对上述处理室内供给规定的处理气体；平行平板型的一对电极，其设于上述处理室内，由兼用作载置上述基板的载置台的下部电极和配设在上述下部电极的上方的上部电极构成；高频电源，其用于对上述一对电极中的至少一方施加高频电力；匹配器，其用于对来自上述高频电源的高频电力进行阻抗匹配，并对上述一方电极施加该经阻抗匹配后的高频电力；控制部件，其进行以恒定的周期将来自上述高频电源的高频电力切换为第1功率和功率高于该第1功率的第2功率的功率调制，并且，进行在施加上述第1功率时和自施加上述第2功率开始的规定期间内停止上述匹配器的匹配动作的掩蔽控制。