[发明专利]一种制作凸面双闪耀光栅的方法

摘要

本发明公开了一种制作凸面双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅。本发明实现了凸面双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。

主权项

一种制作凸面双闪耀光栅的方法，所述凸面双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角，凸面双闪耀光栅分为两个区，对应A闪耀角的为A光栅区，对应B闪耀角的为B光栅区，所述凸面双闪耀光栅为凸球面光栅，其特征在于，制作方法包括下列步骤：(1)在凸面基片上涂布光刻胶，光刻胶的厚度根据A闪耀角确定；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)遮挡B光栅区，对于A光栅区的光栅掩模，进行倾斜Ar离子束扫描刻蚀，利用光刻胶光栅掩模对离子束的遮挡效果，使基底材料的不同位置先后被刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；之后清洗基片，保留下已刻蚀完的闪耀光栅槽形；(4)在凸面基片上重新涂布光刻胶，光刻胶的厚度根据B闪耀角确定；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区，采用光学莫尔条纹法进行莫尔条纹对准，使得两次干涉光刻产生的光栅周期相一致，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)遮挡A光栅区，对于B光栅区的光栅掩模，进行倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到凸面双闪耀光栅；其中，步骤(3)和步骤(6)中所述倾斜Ar离子束扫描刻蚀为，在凸面基片的外侧设置与凸面基片表面同心的球面掩模，所述球面掩模中心的法线方向与Ar离子束入射方向的角度等于对应刻蚀光栅闪耀角的Ar离子束入射角，以凸面基片的球心为转动中心，使凸面基片相对于入射离子束及球面掩模转动，实现扫描刻蚀。