[发明专利]一种抗氧化性能优异的MCrAlY涂层及其制备方法无效
| 申请号: | 201010100443.X | 申请日: | 2010-01-22 |
| 公开(公告)号: | CN101787516A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
| 发明(设计)人: | 郭洪波;彭徽;姚锐;宫声凯;徐惠彬 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
| 主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/16 |
| 代理公司: | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人: | 官汉增 |
| 地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本发明公开一种抗氧化性能优异的MCrAlY涂层及其制备方法,采用等离子体辅助电子束物理气相沉积技术,通过控制基板温度、阳极放电电压、蒸发电流以及在基体上施加的偏压,制备出MCrAlY涂层,该涂层晶粒尺寸为10-50μm的等轴晶结构;涂层沿(111)密排方向取向强烈;涂层中孪晶尺寸为200~500nm;涂层中相沿生长方向成条状均匀分布,且β相尺寸小于1μm,形成了大量的相界面。该涂层在1150℃下使用时,高密度的孪晶和相界为Al元素向外快速扩散提供了通道,更易形成致密的α-Al2O3保护膜,同时减弱了基体元素外扩散对形成氧化膜的破坏作用,涂层抗氧化性能优异,较传统的EB-PVD涂层抗氧化性能提高一个数量级。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 氧化 性能 优异 mcraly 涂层 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种抗氧化性能优异的MCrAlY涂层,其特征在于:所述的MCrAlY涂层晶粒尺寸为10-50μm,为等轴晶结构;涂层沿(111)密排方向取向强烈,涂层中具有高密度的孪晶结构,孪晶尺寸为200~500nm;涂层中β相沿生长方向成条状均匀分布,且β相尺寸细小,小于1μm,形成了大量的相界面;该涂层在1150℃下使用时,形成致密的α-Al2O3保护膜。
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