[发明专利]一种抗氧化性能优异的MCrAlY涂层及其制备方法无效
| 申请号: | 201010100443.X | 申请日: | 2010-01-22 |
| 公开(公告)号: | CN101787516A | 公开(公告)日: | 2010-07-28 |
| 发明(设计)人: | 郭洪波;彭徽;姚锐;宫声凯;徐惠彬 | 申请(专利权)人: | 北京航空航天大学 |
| 主分类号: | C23C14/30 | 分类号: | C23C14/30;C23C14/16 |
| 代理公司: | 北京永创新实专利事务所 11121 | 代理人: | 官汉增 |
| 地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 氧化 性能 优异 mcraly 涂层 及其 制备 方法 | ||
技术领域
本发明属于高温合金涂层制备技术领域,涉及一种具有新型结构的MCrAlY涂层及其制 备方法,更特别地说,是采用等离子体辅助电子束物理气相沉积(EB-PVD)技术制备MCrAlY 涂层的方法。
背景技术
对于现代燃气涡轮发动机而言,提高其工作效率的一个主要手段就是提升发动机整体的 燃烧工作温度。因而需要在高温工作部件的表面涂覆高温防护涂层,以提高高温工作部件的 抗氧化和抗腐蚀性能。MCrAlY(M=Co,Ni或Co+Ni)涂层是90年代以来开始广泛使用的包 覆涂层。MCrAlY涂层具有良好的抗高温氧化和抗热腐蚀性能,而且具有良好的塑性,且成 份选择具有多样性,如参考文献[1]:Bezencon,C.,A.Schnell,et al.(2003).″Epitaxial deposition of MCrAlY coatings on a Ni-base superalloy by laser cladding.″Scripta Materialia 49(7):705-709。参考文献[2]:Knotek,O.,E.Lugscheider,et al.(1995). ″Arc evaporation of multicomponent MCrAlY cathodes.″Surface and Coatings Technology 74-75(Part 1):118-122。参考文献[3]Schmitt-Thomas,K.G.and M. Hertter(1999).″Improved oxidation resistance of thermal barrier coatings.″Surface & Coatings Technology 121:84-88。
目前MCrAlY涂层的制备方法主要有低压等离子喷涂(LPPS),电子束物理气相沉积以 及多弧离子镀(AIP)。低压等离子喷涂制备MCrAlY涂层沉积效率高,成本低,但涂层结合 力差,孔隙率大,表面光洁度差;多弧离子镀制备的涂层主要由液滴堆积而成,存在孔隙, 且表面光洁度不高;电子束物理气相沉积方法沉积速度快,光洁度高,但沉积态涂层为柱状 晶,氧气及其它腐蚀性气氛易沿柱状晶晶界进入涂层内部,降低抗氧化和抗腐蚀性能,因而 需要后续的喷丸及真空热处理等工序,工序复杂,成本高。
当前国际上公认的提高MCrAlY涂层抗氧化性能的方法是进行表面晶粒细化,获得纳米 级晶粒尺寸的表面,如在文献[4]Liu,Z.,W.Gao,et al.(1997).″The effect of coating grain size on the selective oxidation behaviour of Ni-Cr-Al alloy″Scripta Materialia 37(10):1551-1558.中采用磁控溅射沉积(MSD)或文献[5]Dragos,U.,M.Gabriela,et al. (2005).″Improvement of the oxidation behaviour of electron beam remelted MCrAlY coatings.″Solid State Sciences 7(4):459-464.中采用脉冲电子束重熔(PEB)进行后处 理等方法。
发明内容
本发明的目的是公开一种抗氧化性能优异的MCrAlY涂层及其制备方法。采用等离子体 辅助电子束物理气相沉积技术,通过控制基板温度、阳极放电电压、蒸发电流以及在基体上 施加的偏压,制备出一种同传统EB-PVD涂层微观结构不同的新型涂层,该涂层具有优异的 抗氧化性能。
所述的MCrAlY涂层可以沉积在包括铸造高温合金、定向铸造高温合金及单晶高温合金 等各种高温合金基体上;所述的MCrAlY涂层晶粒尺寸为10-50μm,为等轴晶结构;涂层 沿(111)密排方向取向强烈,由于基体中难融元素沿(111)面扩散速度较慢,因而可以 减缓基体元素外扩散的发生;涂层中具有高密度的孪晶结构,孪晶尺寸为200~500nm;涂 层中相沿生长方向成条状均匀分布,且β相尺寸细小,小于1μm,形成了大量的相界面。该 涂层在1150℃下使用时,高密度的孪晶和相界为Al元素向外快速扩散提供了通道,更易形 成致密的α-Al2O3保护膜,同时减弱了基体元素外扩散对形成氧化膜的破坏作用,涂层抗氧 化性能优异,较传统的EB-PVD涂层抗氧化性能提高一个数量级。
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