[发明专利]埋入式线路高对位层间导通结构的制作方法无效
申请号: | 201010000515.3 | 申请日: | 2010-01-11 |
公开(公告)号: | CN102123565A | 公开(公告)日: | 2011-07-13 |
发明(设计)人: | 张谦为;林定皓;吕育德 | 申请(专利权)人: | 苏州统硕科技有限公司 |
主分类号: | H05K3/42 | 分类号: | H05K3/42 |
代理公司: | 北京华夏博通专利事务所 11264 | 代理人: | 刘俊 |
地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | 本发明公开了一种埋入式线路高对位层间导通结构的制作方法,其主要是在层板之间压合之前不进行镭射铜窗,而在层板压合后直接执行镭射钻孔制程来形成导通孔,如此一来,尽管层板之间压合时有层间偏差,但由于没有进行镭射铜窗,所以可以避免先做镭射铜窗再进行镭射钻孔时,因外层导通孔对位不良而导致线路短路的风险,故可以在不改善层间偏移量的情况下提高产品制作能力。 | ||
搜索关键词: | 埋入 线路 对位 层间导通 结构 制作方法 | ||
【主权项】:
一种埋入式线路高对位层间导通结构的制作方法,其特征在于,步骤包括:在一第一层板上形成一第一线路及至少一个靶点;于一第二层板上形成一第二线路;将该第二层板与该第一层板压合,该第二层板覆盖该第一线路及该至少一个靶点;读取该至少一个靶点做对位;藉一钻孔方法贯穿该第一线路的终止垫上的第二层板,用以形成一导通孔于该终止垫上;覆盖一光阻层于部分该第二层板及部分该第二线路上;于该导通孔内及未被该光阻层所覆盖的第二层板上电镀一导电层,用以让该第一线路及该第二线路相连接;以及剥除该光阻层。
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