[发明专利]5′和2′双取代的核苷和由其制备的低聚化合物有效

专利信息
申请号: 200980152715.6 申请日: 2009-10-23
公开(公告)号: CN102264374A 公开(公告)日: 2011-11-30
发明(设计)人: T·P·普拉卡什;E·E·斯韦兹 申请(专利权)人: ISIS制药公司
主分类号: A61K31/712 分类号: A61K31/712;C07H21/00
代理公司: 北京万慧达知识产权代理有限公司 11111 代理人: 张一军;邬玥
地址: 美国加利*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明提供了修饰的核苷和由其制备的低聚化合物。更具体而言,本发明提供了具有至少一个5′-取代基和2′-O-取代基的修饰的核苷、包含这些修饰的核苷中的至少一种的低聚化合物和使用所述低聚化合物的方法。在一些实施方案中,本文提供的低聚化合物预期与靶RNA的一部分杂交以使该靶RNA丧失正常功能。
搜索关键词: 取代 核苷 制备 化合物
【主权项】:
1.一种化合物,所述化合物具有式I:其中:Bx是杂环碱基部分;A是O、S或N(R1);R1是H、C1-C6烷基或取代的C1-C6烷基;T1和T2之一是H、保护基或磷部分,并且T1和T2中的另一个是H、保护基或反应性磷基团;Q1和Q2之一是H、C1-C6烷基、取代的C1-C6烷基、C2-C6烯基、取代的C2-C6烯基、C2-C6炔基或取代的C2-C6炔基,并且Q1和Q2中的另一个是C1-C6烷基、取代的C1-C6烷基、C2-C6烯基、取代的C2-C6烯基、C2-C6炔基或取代的C2-C6炔基;G1是O-[C(R2)(R3)]n-[(C=O)m-X]j-Z或卤素;每个R2和R3独立地是H或卤素;X是O、S或N(E1);Z是H、卤素、C1-C6烷基、取代的C1-C6烷基、C2-C6烯基、取代的C2-C6烯基、C2-C6炔基、取代的C2-C6炔基或N(E2)(E3);E1、E2和E3各自独立地是H、C1-C6烷基或取代的C1-C6烷基;n为1到大约6;m为0或1;j为0或1;每个取代的基团包含一个或多个任选被保护的取代基团,所述任选被保护的取代基团独立地选自卤素、OJ1、N(J1)(J2)、=NJ1、SJ1、N3、CN、OC(=L)J1、OC(=L)N(J1)(J2)和C(=L)N(J1)(J2);L为O、S或NJ3;每个J1、J2和J3独立地是H或C1-C6烷基;并且当j为1时,则Z不为卤素或N(E2)(E3),并且当A为O时,则G1不为卤素。
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