[发明专利]切割用表面保护带及切割用表面保护带的剥离去除方法无效
申请号: | 200980147025.1 | 申请日: | 2009-11-19 |
公开(公告)号: | CN102224575A | 公开(公告)日: | 2011-10-19 |
发明(设计)人: | 西尾昭德;木内一之;高桥智一 | 申请(专利权)人: | 日本电工株式会社 |
主分类号: | H01L21/301 | 分类号: | H01L21/301;C09J7/02;H01L21/683 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | 在切割步骤中,用于切割步骤中的表面保护带通过将其贴附在待切断体的表面上并与待切断体一起被切断来防止待切断体的表面由于粉尘例如切削粉尘的附着而受到污染,并且该表面保护带在切割步骤之后容易从各芯片剥离和去除。将切割用表面保护带贴附在待切断体的表面上并与待切断体一起切断。在该带中,层压收缩性膜层和约束层,该收缩性膜层由于刺激至少沿一个轴方向收缩,该约束层限制该收缩性膜层的收缩,当被施加引起收缩的刺激时,该表面保护带在从一个端部沿一个方向或从相对的两个端部朝向中心的自发卷起并形成一个或两个筒状卷起体的同时剥离。 | ||
搜索关键词: | 切割 表面 保护 剥离 去除 方法 | ||
【主权项】:
一种切割用表面保护带,将所述切割用表面保护带贴附在待切断体的表面上并与所述待切断体一起切断,所述切割用表面保护带包括收缩性膜层和层压在所述收缩性膜层上的约束层,所述收缩性膜层通过刺激沿至少一个轴方向收缩,所述约束层限制所述收缩性膜层的收缩,而且当施加引起收缩的刺激时,所述切割用表面保护带随着从一个端部沿一个方向或从相对的两个端部朝向中心进行自发卷起以形成一个或两个筒状卷起体而剥离。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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