[发明专利]磁性地保持在基片保持器上的阴影掩模

摘要

本发明涉及一种用于在置于基片保持器(1)上的基片(2)上借助以平面在待涂层基片表面(2’)上的阴影掩模(3)沉积侧向结构层的设备，其中，基片保持器(1)具有第一磁性区(4)，以用于磁性地吸引阴影掩模(3)的为此第一磁性区(4)配设的第二磁性区(5)，第一磁性区(4)在基片(2)被涂层前可以在阴影掩模(3)放在基片(2)上的情况下处于激活位置，在此激活位置将第二磁性区(5)向基片表面(2’)吸引，且所述第一磁性区可以为安上或取下阴影掩模(3)而处于非激活位置，在所述非激活位置中作用在第二磁性区(5)上的吸引力被减到最小。重要的是，第一磁性区(4)由位于基片保持器(1)的基片支承面(1’)的凹部(6)内、与第二磁性区(5)在位置上对应的尤其是永磁性元件形成。

主权项

一种用于在置于基片保持器(1)上的基片(2)上沉积侧向结构层的设备，所述沉积借助于以平面在待涂层的基片表面(2’)上的阴影掩模(3)进行，其中，基片保持器(1)具有第一磁性区(4)以用于磁性地吸引阴影掩模(3)的为此第一磁性区(4)对应配设的第二磁性区(5)，其中，第一磁性区(4)在基片(2)被涂层前当阴影掩模(3)放在基片(2)上时可处于激活位置，在此激活位置中将第二磁性区(5)向基片表面(2’)吸引，且所述第一磁性区为安上或取下阴影掩模(3)而可处于非激活位置，在所述非激活位置中作用在第二磁性区(5)上的吸引力减到最小，其特征在于，第一磁性区(4)由置入基片保持器(1)的基片支承面(1’)的凹部(6)内、与第二磁性区(5)在位置上对应的尤其是永磁性元件形成。