[发明专利]制备SSZ-74的方法有效

专利信息
申请号: 200980134040.2 申请日: 2009-09-11
公开(公告)号: CN102137812A 公开(公告)日: 2011-07-27
发明(设计)人: 卡尔·G·施特罗迈尔;西蒙·C·韦斯顿 申请(专利权)人: 埃克森美孚研究工程公司
主分类号: C01B33/00 分类号: C01B33/00;C01B39/00;C01B39/02;C01B39/04;C01B39/46
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 张爽;樊卫民
地址: 美国新*** 国省代码: 美国;US
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摘要: 发明涉及在不存在氟离子的源的情况下制备具有SSZ-74晶体结构的合成晶体材料的方法。
搜索关键词: 制备 ssz 74 方法
【主权项】:
制备具有SSZ‑74的晶体结构的合成晶体材料的方法,该方法包括使反应混合物在结晶条件下接触,所述反应混合物包含至少一种三价元素X的源,至少一种二氧化硅的源和作为结构导向剂(SDA)的源的1,1’‑(己烷‑1,6‑二基)双(1‑甲基吡咯烷鎓)双阳离子,其中所述反应混合物不含有氟离子的源,并且所述反应混合物任选含有至少一种碱金属阳离子Y的源。
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