[实用新型]一种用于控制真空生长室内气体压力的压力自动控制装置有效

专利信息
申请号: 200920222341.8 申请日: 2009-09-02
公开(公告)号: CN201545935U 公开(公告)日: 2010-08-11
发明(设计)人: 吴晟 申请(专利权)人: 吴晟
主分类号: C30B23/00 分类号: C30B23/00;F16K31/02;F16K51/02;G05D16/00
代理公司: 北京中创阳光知识产权代理有限责任公司 11003 代理人: 尹振启
地址: 100080 北京市*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 本申请公开了一种用于控制单晶生长设备的真空生长室内气体压力的压力自动控制装置,包括与真空生长室连通的抽气泵、气阀流量计、以及与气阀流量计相连的气源、其特征在于,在真空生长室与真空抽气泵之间,或真空生长室与气体流量计之间设置有电磁阀,该装置进一步包括压力传感器、程序给定器、PID控制器和多谐振荡器,压力传感器测量生长室的气压,并将测得的压力转换成电信号,该信号与程序给定器给出的压力数值进行比较,其差值被送入PID控制器,PID控制器将输出到压控多谐振荡器,该压控多谐振荡器的输出信号控制所述电磁阀的气阀的通、断,进而控制真空生长室的进气和出气,使真空生长室内的压力保持在晶体生长工艺要求的稳定状态。
搜索关键词: 一种 用于 控制 真空 生长 室内 气体 压力 自动控制 装置
【主权项】:
一种用于控制单晶生长设备中真空生长室内压力的压力自动控制装置,包括与真空生长室连通的抽气泵、气阀流量计、以及与气阀流量计相连的气源,其特征为:在真空生长室与抽气泵之间,或真空生长室与气体流量计之间设置有电磁阀,该电磁阀由预定的程序控制其开启和关闭,使真空生长室的压力保持在工艺要求的稳定的压力状态。
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