[实用新型]用于在远紫外光刻中将同步加速器用作源的装置有效
| 申请号： | 200920219115.4 | 申请日： | 2009-10-13 |
| 公开（公告）号： | CN201540455U | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | L·S·梅尔文三世 | 申请（专利权）人： | 新思科技有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/213 | 分类号： | G03F7/213;G03F7/22;H05H13/04 |
| 代理公司： | 北京市金杜律师事务所 11256 | 代理人： | 王茂华;陈姗姗 |
| 地址： | 美国加利*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 紫外 光刻 中将 同步加速器 用作 装置 | ||
1.一种用于在远紫外光刻EUVL系统中将同步加速器用作源的装置，其特征在于：所述同步加速器的能量随着时间减少，其中所述远紫外光刻EUVL系统包括使用步进重复方式将图案从标线片转移到晶片上的步进器，其中所述步进器使用所述标线片来曝光所述晶片的区域，并在曝光了所述区域后，所述步进器将所述晶片移动到新位置，使得所述步进器可以曝光所述晶片上的另一区域，并且其中要求所述晶片的每个区域以恒定的剂量曝光，所述装置包括：
测量装置，配置用于测量同步加速器电流，其中所述同步加速器包括存储循环电子的存储环，并且其中所述循环电子产生所述同步加速器电流；以及
调整装置，配置用于基于所述同步加速器电流来调整所述步进器的曝光持续时间，其中所述步进器的曝光持续时间与所述同步加速器电流成反比，并且其中调整所述步进器的曝光持续时间以使得所述晶片以恒定的剂量曝光。
2.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述远紫外光刻EUVL系统包括准直仪，其配置用于生成矩形的束。
3.根据权利要求1所述的装置，其特征在于还包括校准装置，其配置用于校准所述远紫外光刻EUVL系统，以确定比例常数k，其中所述恒定的剂量D、同步加速器电流I和所述步进器的曝光持续时间T由D＝k·I·T相关联。
4.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述测量装置进一步配置用于重复地测量所述同步加速器电流，并且一旦所述晶片已经以所述恒定的剂量曝光，则终止所述曝光。
5.根据权利要求1所述的装置，其特征在于：所述调整装置配置用于使得所述远紫外光刻EUVL系统能够将所述晶片以所述恒定的剂量曝光，而无需使用用来监控所述源的能量的附加设备。
6.一种远紫外光刻EUVL系统，其特征在于包括：
同步加速器，其用作远紫外辐射的源，其中所述源的能量随着时间减少；
步进器，其使用步进重复方式将图案从标线片转移到晶片上，其中所述步进器使用所述标线片来曝光所述晶片的区域，并且在曝光所述区域后，所述步进器将所述晶片移动到新的位置，使得所述步进器能够曝光所述晶片的另一区域，并且其中要求所述晶片的每个区域以恒定的剂量曝光；以及
计算机，其包括处理器和存储器，其中所述处理器包括：
接收装置，配置用于接收同步加速器电流的测量结果，其中所述同步加速器包括存储循环电子的存储环，所述循环电子产生所述同步加速器电流，以及其中所述测量结果是在不同的时间点获得；
确定装置，配置用于使用所述同步加速器电流的测量结果来确定所述晶片是否已经以所述恒定的剂量曝光，其中所述步进器的曝光持续时间与所述同步加速器电流成反比；以及
发送装置，配置用于响应于确定所述晶片已经以所述基本恒定的剂量曝光，将终止曝光消息发送至所述步进器，期望该消息使得所述步进器停止曝光所述晶片。
7.根据权利要求6所述的远紫外光刻EUVL系统，其特征在于：所述远紫外光刻EUVL系统包括准直仪，配置用于生成矩形的束。
8.根据权利要求6所述的远紫外光刻EUVL系统，其特征在于：所述远紫外光刻EUVL系统被校准以确定比例常数k，其中所述恒定的剂量D、同步加速器电流I和所述步进器的曝光持续时间T由D＝k·I·T相关联。
9.根据权利要求6所述的远紫外光刻EUVL系统，其特征在于：所述确定装置进一步包括：
增量剂量值确定装置，配置用于使用所述同步加速器电流的测量结果来确定增量剂量值；
合计剂量值确定装置，配置用于使用所述增量剂量值来确定合计剂量值；以及
比较装置，配置用于将所述合计剂量值与所述恒定的剂量相比较。
10.根据权利要求6所述的远紫外光刻EUVL系统，其特征在于：所述确定装置配置用于使得所述远紫外光刻EUVL系统能够将所述晶片以所述恒定的剂量曝光，而无需须使用用于监控所述源的能量的附加设备。
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