[实用新型]多晶硅还原炉有效
| 申请号： | 200920210006.6 | 申请日： | 2009-09-24 |
| 公开（公告）号： | CN201512418U | 公开（公告）日： | 2010-06-23 |
| 发明（设计）人： | 程佳彪;张华芹;茅陆荣;周积卫 | 申请（专利权）人： | 上海森松压力容器有限公司 |
| 主分类号： | C01B33/03 | 分类号： | C01B33/03;C30B29/06 |
| 代理公司： | 上海百一领御专利代理事务所(普通合伙) 31243 | 代理人： | 陈贞健 |
| 地址： | 201208 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型提供了一种多晶硅还原炉，其包括炉体和底盘，在底盘上均匀设置36对电极。本实用新型的多晶硅还原炉内部结构布局合理，单台还原炉每批次产量较现有的还原炉有大幅度提升，每公斤多晶硅的电耗相应降低，多晶硅的综合生产成本和能耗也相应降低。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶 还原 | ||
【主权项】：
一种多晶硅还原炉，其包括炉体和底盘(3)，其特征在于，在底盘(3)上均匀设置36对电极(11)。
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