[实用新型]射频线圈温度控制装置有效
| 申请号： | 200920208484.3 | 申请日： | 2009-08-26 |
| 公开（公告）号： | CN201532586U | 公开（公告）日： | 2010-07-21 |
| 发明（设计）人： | 刘祥超;杨小军;林延安 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | G05D23/20 | 分类号： | G05D23/20;G05B19/05 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型揭露了一种射频线圈温度控制装置，用于控制等离子体清洗腔室的射频线圈的温度，所述射频线圈采用中空的铜管制成，且其内部流通有气体，该装置包括：至少一个顶部风扇，位于所述射频线圈的上方；质量流量控制器，调节所述气体的流量；至少一个温度传感器，检测所述射频线圈的温度；可编程控制器，根据所述温度传感器的温度检测结果控制所述质量流量控制器。 | ||
| 搜索关键词： | 射频 线圈 温度 控制 装置 | ||
【主权项】：
一种射频线圈温度控制装置，其特征在于，用于控制等离子体清洗腔室的射频线圈的温度，所述射频线圈采用中空的铜管制成，且其内部流通有气体，该装置包括：至少一个顶部风扇，位于所述射频线圈的上方；质量流量控制器，调节所述气体的流量；至少一个温度传感器，检测所述射频线圈的温度；可编程控制器，根据懀 述温度传感器的温度检测结果控制所述质量流量控制器。
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