[实用新型]射频线圈温度控制装置

权利要求书

1.一种射频线圈温度控制装置，其特征在于，用于控制等离子体清洗腔室的射频线圈的温度，所述射频线圈采用中空的铜管制成，且其内部流通有气体，该装置包括：

至少一个顶部风扇，位于所述射频线圈的上方；

质量流量控制器，调节所述气体的流量；

至少一个温度传感器，检测所述射频线圈的温度；

可编程控制器，根据所述温度传感器的温度检测结果控制所述质量流量控制器。

2.如权利要求1所述的射频线圈温度控制装置，其特征在于，所述装置还包括第一风扇控制器，通过所述可编程控制器控制所述第一风扇控制器以调节所述顶部风扇的转速。

3.如权利要求1所述的射频线圈温度控制装置，其特征在于，所述装置还包括至少一个位于所述射频线圈的四周的侧面风扇；

4.如权利要求3所述的射频线圈温度控制装置，其特征在于，所述装置还包括第二风扇控制器，通过所述可编程控制器控制所述第二风扇控制器以调节所述侧面风扇的转速。

5.如权利要求1所述的射频线圈温度控制装置，其特征在于，所述装置控制所述射频线圈的温度为15～30℃。

6.如权利要求1所述的射频线圈温度控制装置，其特征在于，所述气体为氩气、氮气、氟化氮、四氟化碳中的一种或者至少两种以上的组合。

7.如权利要求6所述的射频线圈温度控制装置，其特征在于，所述气体的温度为35～45℃。