[实用新型]湿法氧化膜刻蚀设备水槽装置无效
| 申请号： | 200920074633.1 | 申请日： | 2009-10-22 |
| 公开（公告）号： | CN201538818U | 公开（公告）日： | 2010-08-04 |
| 发明（设计）人： | 董锐;蔡亮 | 申请（专利权）人： | 上海华虹NEC电子有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/08 | 分类号： | C23F1/08;C30B33/10 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 张骥 |
| 地址： | 201206 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本实用新型公开了一种湿法氧化膜刻蚀设备水槽装置，包括喷淋管，喷淋管上均布有喷淋孔，所述喷淋孔的喷淋角度为向上45°。所述喷淋孔为一排。所述喷淋孔的孔径为1.8mm。本实用新型喷淋出的水流量均一性更好，能够有效减少晶圆与晶圆间水流量的差异，使晶圆与晶圆间氧化膜刻蚀量差异性减小，从而改善晶圆与晶圆间氧化膜刻蚀量的均一性。 | ||
| 搜索关键词： | 湿法 氧化 刻蚀 设备 水槽 装置 | ||
【主权项】：
一种湿法氧化膜刻蚀设备水槽装置，包括喷淋管，喷淋管上均布有喷淋孔，其特征在于：所述喷淋孔的喷淋角度为向上45°。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海华虹NEC电子有限公司，未经上海华虹NEC电子有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200920074633.1/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种阴极组装生产线炭块工作平台
- 下一篇：一种真空蠕变校形炉
