[发明专利]一种化学机械抛光装置无效
| 申请号： | 200910247422.8 | 申请日： | 2009-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN102107390A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 邓武锋;杨涛 | 申请（专利权）人： | 中芯国际集成电路制造(上海)有限公司 |
| 主分类号： | B24B29/02 | 分类号： | B24B29/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 20120*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光装置包括：抛光垫；抛光垫传送装置，包括至少两个传送轮，所述传送轮的轴心位于同一水平线，所述抛光垫的两端缠绕于位于最外侧的两个所述传送轮上；研磨头，用于固定晶片且其自身可旋转，同时将晶片的需抛光面压向所述抛光垫；控制器，连接所述研磨头和所述抛光垫传送装置，控制所述研磨头和所述抛光垫传送装置的各种操作参数。本发明提供的化学机械抛光装置简化了化学机械抛光装置的结构。同时可有效防止在抛光过程中使图案产生凹陷、过抛或使金属互连线及其之间的介电层出现扭曲变形等缺陷，使晶片表面具有更好的平整度，同时提高晶片的可靠性和良率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 装置 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光装置，包括：抛光垫；抛光垫传送装置，包括至少两个传送轮，所述传送轮的顶端位于同一水平线，所述抛光垫的两端缠绕于位于最外侧的两个所述传送轮上；研磨头，用于固定晶片且其自身可旋转，同时将晶片的需抛光面压向所述抛光垫；控制器，连接所述研磨头和所述抛光垫传送装置，控制所述研磨头和所述抛光垫传送装置进行化学机械抛光。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中芯国际集成电路制造(上海)有限公司，未经中芯国际集成电路制造(上海)有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910247422.8/，转载请声明来源钻瓜专利网。
