[发明专利]镍铋杂化纳米线及其制备方法无效

专利信息
申请号: 200910237149.0 申请日: 2009-11-06
公开(公告)号: CN102050423A 公开(公告)日: 2011-05-11
发明(设计)人: 杨大驰;智林杰 申请(专利权)人: 国家纳米科学中心
主分类号: B82B1/00 分类号: B82B1/00;B82B3/00
代理公司: 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 代理人: 曹津燕
地址: 100190 北*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种镍和铋杂化纳米线及其制备方法。本发明所述的杂化纳米线由镍和铋组成,直径为75nm,长度不大于100μm。本发明所述的方法包括以下步骤:将经氧化的铝片,制成孔径为15-200nm的氧化铝模板;对具有通孔氧化铝模板的底面蒸镀金膜,得到蒸镀金膜的氧化铝模板;将蒸镀金膜的氧化铝模板置于镍和铋的混合电镀液中,进行电位沉积,得到生成于氧化铝模板通孔中的由镍和铋组成的杂化纳米线;将通孔中置有杂化纳米线的氧化铝模板,置于强碱溶液中腐蚀掉氧化铝模板,得到由镍和铋组成的纳米线。本发明得到的磁性金属镍和半金属铋两种材料所组成的功能杂化纳米线。该纳米线在磁性调控的光电合热电纳米器件有巨大的潜在应用。
搜索关键词: 镍铋杂化 纳米 及其 制备 方法
【主权项】:
一种杂化纳米线,该杂化纳米线由镍和铋组成,而且镍与铋的原子数量比为1∶0.5~1∶5,优选为1∶3。
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