[发明专利]一种制作全息双闪耀光栅的方法有效
| 申请号： | 200910231737.3 | 申请日： | 2009-12-03 |
| 公开（公告）号： | CN101726779A | 公开（公告）日： | 2010-06-09 |
| 发明（设计）人： | 刘全;吴建宏;汪海宾;胡祖元;陈新荣;李朝明 | 申请（专利权）人： | 苏州大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;G03F7/00 |
| 代理公司： | 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 | 代理人： | 陶海锋 |
| 地址： | 215123 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种制作全息双闪耀光栅的方法，其特征在于，包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；清洗基片；(4)重新涂布光刻胶；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区进行莫尔条纹对准，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。本发明实现了全息双闪耀光栅的制作，能够精确地分别控制两个闪耀角。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 制作 全息 闪耀 光栅 方法 | ||
【主权项】：
一种制作全息双闪耀光栅的方法，所述全息双闪耀光栅的两个闪耀角分别是A闪耀角和B闪耀角，双闪耀光栅分为两个区，对应A闪耀角的为A光栅区，对应B闪耀角的为B光栅区，其特征在于，制作方法包括下列步骤：(1)在光栅基片上涂布光刻胶，光刻胶的厚度根据A闪耀角确定；(2)进行第一次干涉光刻，制作符合A闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(3)遮挡B光栅区，对于A光栅区的光栅掩模，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，利用光刻胶光栅掩模对离子束的遮挡效果，使基底材料的不同位置先后被刻蚀，形成三角形的闪耀光栅槽形；之后清洗基片，保留下已刻蚀完的闪耀光栅槽形；(4)在光栅基片上重新涂布光刻胶，光刻胶的厚度根据B闪耀角确定；(5)将B光栅区进行遮挡，利用已制备完成的A光栅区，采用光学莫尔条纹法进行莫尔条纹对准，使得两次干涉光刻产生的光栅周期相一致，然后去除遮挡，进行第二次干涉光刻，制作符合B闪耀角要求的光刻胶光栅掩模；(6)遮挡A光栅区，通过倾斜Ar离子束扫描刻蚀，将B光栅区刻蚀形成三角形的闪耀光栅槽形；(7)清洗基片，得到全息双闪耀光栅。
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