[发明专利]一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法

摘要

一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法，属于光谱技术领域中涉及的一种方法。要解决的技术问题是提供一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法。解决的技术方案为：步骤一，配备一套用于全息光栅曝光的洛艾镜式曝光光学系统；步骤二，在洛艾镜式曝光光学系统中置入基准光栅，调整干涉场的干涉条纹密度与基准光栅的刻线密度相同；步骤三，在基准光栅位置放置涂有光致抗蚀剂的光栅基底用于曝光，使曝光后光栅的刻线密度与干涉场的干涉条纹密度相同。本方法通过莫尔条纹法将对微米级的干涉场干涉条纹的周期测量转换为对毫米级的莫尔条纹的测量，能精确确定全息光栅的刻线密度，采用该方法对于制作全息光栅具有较大的实际意义。

主权项

一种在全息光栅制作光路中精确调整刻线密度的方法，是通过调整曝光光路中干涉场的干涉条纹密度实现的；其特征在于：第一，配备一套用于全息光栅曝光的洛艾镜式曝光光学系统，包括激光光源(11)、第一平面反射镜(12)和第二平面反射镜(13)、空间滤波器(14)、准直反射镜(15)、调整反射镜(16)、来自于准直反射镜(15)的第一束记录光(17)、来自于调整反射镜(16)的第二束记录光(18)和干涉场(19)；第二，在全息光栅曝光的洛艾镜式曝光光学系统中，在干涉场(19)中放置基准光栅(20)，使基准光栅(20)的刻线方向垂直于由第一束记录光(17)和第二束记录光(18)所组成的平面，基准光栅(20)的表面面向准直反射镜(15)，基准光栅(20)的法线平行于调整反射镜(16)的前表面，也就是说基准光栅(20)与调整反射镜(16)成90°夹角，此时，第一束记录光(17)和第二束记录光(18)照射到基准光栅(20)的表面上；调整调整反射镜(16)和基准光栅(20)，使第一束记录光(17)经过基准光栅(20)的-2级衍射光与第二束记录光(18)经过基准光栅(20)的+1级衍射光沿相同方向出射，在该两束衍射光出射的光路上置有接收屏(21)，接收屏(21)表面与两束衍射光出射方向垂直，该两束衍射光出射到接收屏(21)上，在接收屏(21)上会形成莫尔条纹，仔细调整调整反射镜(16)和基准光栅(20)的俯仰角和方位角，以保证在接收屏(21)上得到的莫尔条纹垂直于由第一束记录光(17)和第二束记录光(18)所组成的平面，并且条纹宽度最大；这时，干涉场(19)中的干涉条纹密度与基准光栅(20)的刻线密度相同；第三，取下基准光栅(20)和接收屏(21)，将涂有光致抗蚀剂的光栅基底(22)放在原来的基准光栅(20)所在的位置，使涂有光致抗蚀剂的光栅基底(22)记录由第一束记录光(17)和第二束记录光(18)形成的的干涉条纹，该干涉条纹的密度即为被制作全息光栅的刻线密度。