[发明专利]一种烘烤光刻胶的方法及使用该方法的装置有效
| 申请号： | 200910201295.8 | 申请日： | 2009-12-17 |
| 公开（公告）号： | CN102103333A | 公开（公告）日： | 2011-06-22 |
| 发明（设计）人： | 卢士良;段立峰;蔡燕民 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38 |
| 代理公司： | 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 | 代理人： | 王光辉 |
| 地址： | 201203 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开一种烘烤光刻胶的方法，根据每个曝光区域曝光时间的差异，在烘烤工艺环节添加差额时间，使每个曝光区域在曝光和烘烤之间有相同的时间间隔。同时公开了使用该方法的装置。使用本发明公开的烘烤光刻胶的方法及装置，可以有效地减小不同曝光区域之间由于不是同时曝光引起时间延误而造成的烘烤差异，有助于获得更优良的关键尺寸均匀性。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 烘烤 光刻 方法 使用 装置 | ||
【主权项】：
一种烘烤光刻胶的方法，其特征在于：在烘烤光刻胶的过程中，根据每个曝光区域曝光时间的差异，在烘烤工艺环节添加差额时间，使得硅片各个曝光区域在曝光和烘烤之间有相同的时间间隔。
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