[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200910200822.3 | 申请日： | 2009-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN102108259A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/762 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明揭示了一种用于介质材料二氧化硅抛光的化学机械抛光液，其含有一种磨料，至少一种氧化硅抛光促进剂，其它功能助剂。该抛光液具有研磨速率高，表面污染物数量少，平坦化效率高，表面均一性好等优点，适用于大规模集成电路二氧化硅介质抛光，以及浅槽隔离抛光平坦化。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
一种化学机械抛光液，其包含：磨料、至少一种二氧化硅抛光促进剂，PH调节剂和分散稳定剂。
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