[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 200910200822.3 | 申请日： | 2009-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN102108259A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 宋伟红;姚颖 | 申请（专利权）人： | 安集微电子(上海)有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/3105;H01L21/762 |
| 代理公司： | 上海翰鸿律师事务所 31246 | 代理人： | 李佳铭 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
1.一种化学机械抛光液，其包含：磨料、至少一种二氧化硅抛光促进剂，PH调节剂和分散稳定剂。
2.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的磨料为选自二氧化硅溶胶、金属掺杂的二氧化硅、气相法二氧化硅及其水分散体、氧化铝、改性氧化铝、氧化饰和高聚物颗粒中的一种或多种。
3.如权利要求2所述的抛光液，其特征在于，所述的磨料为二氧化硅溶胶颗粒和/或气相法二氧化硅。
4.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的磨料的颗粒粒径为20～250nm。
5.如权利要求4所述的抛光液，其特征在于，所述的磨料的颗粒粒径为80～200nm。
6.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述的磨料的质量百分含量为5～40％。
7.如权利要求6所述的抛光液，其特征在于，所述的磨料的质量百分含量为10～20％。
8.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述二氧化硅的抛光促进剂为阴离子型聚丙烯酰胺和/或聚丙烯酸与聚丙烯酰胺的共聚物，分子量为500万～2000万。
9.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述二氧化硅的抛光促进剂为无机盐，所述无机盐为选自强酸弱碱盐、强碱弱酸盐、弱酸弱碱盐和强酸强碱盐中的一种或多种。
10.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液还包含杀菌剂和/或防霉剂。
11.如权利要求1所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH为9～12。
12.如权利要求11所述的抛光液，其特征在于，所述抛光液的pH为10.5～11.5。
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