[发明专利]束流传输系统及方法有效
| 申请号： | 200910200780.3 | 申请日： | 2009-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN102110568A | 公开（公告）日： | 2011-06-29 |
| 发明（设计）人： | 钱锋 | 申请（专利权）人： | 上海凯世通半导体有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/30 | 分类号： | H01J37/30;H01J37/32;H01J37/147 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 薛琦;朱水平 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种束流传输系统，其包括一束流出射装置和一作为束流传输终点的目标工件，在该束流出射装置和该目标工件之间设有一对相互平行的、分别位于束流路径两侧的第一杆状四极磁铁，该两个第一杆状四极磁铁的线圈内的电流值之和保持为一第一预设值，且该两个第一杆状四极磁铁的线圈内的电流值均在一预设上限和一预设下限之间不断改变。本发明还公开了一种利用上述束流传输系统实现的束流传输方法。本发明可以通过控制一对或两对杆状四极磁铁的电流值，控制束流的强度分布和角度分布，从而提高束流的利用效率，更方便地优化束流的剂量和角度的均匀性，同时由于杆状四极磁铁的聚焦效应，还可以提高束流的传输效率和到达工件时的束流强度。 | ||
| 搜索关键词： | 流传 系统 方法 | ||
【主权项】：
一种束流传输系统，其包括一束流出射装置和一作为束流传输终点的目标工件，其特征在于，在该束流出射装置和该目标工件之间设有一对相互平行的、分别位于束流路径两侧的第一杆状四极磁铁，该两个第一杆状四极磁铁的线圈内的电流值之和保持为一第一预设值，且该两个第一杆状四极磁铁的线圈内的电流值均在一预设上限和一预设下限之间不断改变。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海凯世通半导体有限公司，未经上海凯世通半导体有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/200910200780.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
