[发明专利]平衡质量系统及其工件台有效

专利信息
申请号: 200910199196.0 申请日: 2009-11-20
公开(公告)号: CN102073219A 公开(公告)日: 2011-05-25
发明(设计)人: 郑乐平;吴立伟;庞璐;方敏 申请(专利权)人: 上海微电子装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅;李时云
地址: 201203 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提出一种具平衡质量系统的工件台,包括基座、微动台、粗动台和平衡质量系统。粗动台包括两个Y向长行程电机和由两个Y向长行程电机驱动的两个Y向长行程滑块。平衡质量系统包括由气浮相连的下层平衡块和四个上层平衡块。下层平衡块垂直气浮于基座并具有两个Y向气浮导轨和两个Y向导轨,两个Y向导轨上可滑动地设置有两个Y向长行程滑块。四个上层平衡块的端部利用多个柔性铰链将其首尾相连形成口字形状,设置在两个Y向气浮导轨上,这些上层平衡块具有两个Y向电机定子导轨,两个Y向长行程电机的动子分别可滑动地设置在两个Y向电机定子导轨上。本发明提供的工件台能在Rz方向上消减对微动台的负面影响。
搜索关键词: 平衡 质量 系统 及其 工件
【主权项】:
一种平衡质量系统,适用于消减光刻工艺中工件台的微动台Rz方向的转矩,上述工件台包括基座、用以承载硅片的微动台和用以驱动微动台的粗动台,该粗动台包括两个Y向长行程电机和分别连接至上述两个Y向长行程电机的动子并由上述两个Y向长行程电机驱动的两个Y向长行程滑块,其特征在于,该平衡质量系统包括:下层平衡块,具有两个Y向气浮导轨和两个Y向导轨,上述两个Y向导轨上分别可滑动地设置有上述粗动台的两个Y向长行程滑块;以及四个上层平衡块,其端部利用多个柔性铰链将其首尾相连,形成口字形状,设置在下层平衡块的两个Y向气浮导轨上,这些上层平衡块具有两个Y向电机定子导轨,上述粗动台两个Y向长行程电机的动子分别可滑动地设置在上述两个Y向电机定子导轨上。
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