[发明专利]绝缘栅双极晶体管无效

专利信息
申请号: 200910179034.0 申请日: 2009-10-09
公开(公告)号: CN101714573A 公开(公告)日: 2010-05-26
发明(设计)人: 伊藤将之 申请(专利权)人: 恩益禧电子股份有限公司
主分类号: H01L29/739 分类号: H01L29/739;H01L29/08
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 孙志湧;穆德骏
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要: 发明提供一种绝缘栅双极晶体管(IGBT),所述绝缘栅双极晶体管占据小面积并且抑制热击穿。IGBT包括:n型半导体层(3);以及集电极部,该集电极部形成在n型半导体层(3)的表面部分中。集电极部包括:n型缓冲区域(14);以及p+型集电极区域(15)和n+型接触区域(18),该p+型集电极区域(15)和n+型接触区域(18)被形成在n型缓冲区域(14)中。
搜索关键词: 绝缘 双极晶体管
【主权项】:
一种绝缘栅双极晶体管,包括:衬底区域;以及集电极部,其形成在所述衬底区域的表面部分中,其中所述集电极部包括:缓冲区域;p+型区域,其形成在所述缓冲区域中;以及n+型区域,其形成在所述缓冲区域中。
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