[发明专利]光刻设备以及去除污染物的方法无效
申请号: | 200910174037.5 | 申请日: | 2009-10-20 |
公开(公告)号: | CN101727017A | 公开(公告)日: | 2010-06-09 |
发明(设计)人: | A·M·C·P·德琼;H·詹森;J·C·J·范德东克;H·戈特;J·H·范德伯格 | 申请(专利权)人: | ASML荷兰有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;C11D1/66;C11D3/43;C11D3/44 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 王新华 |
地址: | 荷兰维*** | 国省代码: | 荷兰;NL |
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摘要: | 本发明公开了一种光刻设备以及去除污染物的方法,该光刻设备包括:流体供给系统,其配置以将清洁流体提供到将要清洁的表面。清洁流体包括:25-98.99wt%的水;1-74.99wt%的选自一种或更多种二元醇醚、酯、醇和酮的溶剂;和0.01-5wt%的表面活性剂。 | ||
搜索关键词: | 光刻 设备 以及 去除 污染物 方法 | ||
【主权项】:
一种光刻设备,包括:流体供给系统,配置以将清洁流体提供到将要清洁的表面,所述清洁流体包括:25-98.99wt%的水;1-74.99wt%的选自一种或更多种二元醇醚、酯、醇和酮的溶剂;和0.01-5wt%的表面活性剂。
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