[发明专利]研磨垫及研磨垫的制造方法有效
| 申请号： | 200910169164.6 | 申请日： | 2005-12-08 |
| 公开（公告）号： | CN101659035A | 公开（公告）日： | 2010-03-03 |
| 发明（设计）人： | 小川一幸;下村哲生;数野淳;中井良之;渡边公浩;山田孝敏;中森雅彦 | 申请（专利权）人： | 东洋橡胶工业株式会社 |
| 主分类号： | B24B37/04 | 分类号： | B24B37/04;H01L21/02 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李贵亮 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明的目的在于，提供一种研磨垫，其在进行研磨的状态下进行高精度的光学终点检测，既使在长时间使用的情况下，也可以防止来自研磨区域与透光区域之间的漏浆。本发明的研磨垫在研磨区域(8)及透光区域(9)的单面设有防透水层(10)，并且透光区域与防透水层由相同材料一体化形成。 | ||
| 搜索关键词： | 研磨 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种研磨垫，具有研磨区域及透光区域，其特征是，透光区域的压缩率大于研磨区域的压缩率，透光区域的形成材料为合成橡胶，所述研磨区域由通过使用了硅类表面活性剂的机械的发泡法得到的聚氨酯树脂发泡体形成。
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